脱敏还原

敏盾 MDmask 支持密钥级授权的可逆还原：脱敏产物在授权条件下可恢复真实内容，兼顾外发流通与信息找回两种需求。

工作原理

• 脱敏处理时，被遮盖内容的恢复信息与文档绑定存储
• 还原操作需要有效的授权文件校验通过后方可执行
• 没有对应授权的环境无法还原，脱敏产物对外仍是安全的

还原流程

1. 在客户端主界面进入**「还原」**页面
2. 上传需要还原的脱敏产物文件
3. 系统校验本机授权，校验通过后执行还原
4. 下载还原后的文档，内容恢复至脱敏前状态

适用场景

场景	说明
误操作找回	脱敏后发现误删了不该脱敏的内容，可还原后重新处理
授权回溯	内部留存产物需要找回原始信息进行核对
受控流通	产物外发后，仅持有授权的接收方环境可还原

安全边界

还原能力受授权文件约束，授权文件包含机器指纹与有效期。请妥善保管授权文件；对需要永久脱敏的材料，还原后请确认产物去向。